- gas-phase precursor
- газофазний початковий (вихідний) реагент
English-Ukrainian dictionary of microelectronics. 2013.
gas-phase precursor
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Gas chromatography-mass spectrometry — (GC MS) is a method that combines the features of gas liquid chromatography and mass spectrometry to identify different substances within a test sample. Applications of GC MS include drug detection, fire investigation, environmental analysis,… … Wikipedia
Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… … Wikipédia en Français
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Solution precursor plasma spray — (SPPS) is a thermal spray process where a feedstock solution is heated and then deposited onto a substrate. Basic properties of the process are fundamentally similar to other plasma spraying processes. However, instead of injecting a powder into… … Wikipedia
Natural gas in Qatar — According to Oil Gas Journal as of January 1, 2011, Qatar s proven natural gas reserves stood at approximately 896 trillion cubic feet (25.4 trillion cubic metres), that is almost 14% of all known natural gas reserves and the third largest… … Wikipedia
ExoMars Trace Gas Orbiter — Vue d artiste de Mars Trace Gas Mission Caractéristiques Organisation … Wikipédia en Français
Thin film — A thin film is a layer of material ranging from fractions of a nanometer (monolayer) to several micrometers in thickness. Electronic semiconductor devices and optical coatings are the main applications benefiting from thin film construction. A… … Wikipedia
Thin-film deposition — is any technique for depositing a thin film of material onto a substrate or onto previously deposited layers. Thin is a relative term, but most deposition techniques allow layer thickness to be controlled within a few tens of nanometers, and some … Wikipedia
Mass spectrometry — (MS) is an analytical technique that measures the mass to charge ratio of charged particles.[1] It is used for determining masses of particles, for determining the elemental composition of a sample or molecule, and for elucidating the chemical… … Wikipedia
Hybrid Physical-Chemical Vapor Deposition — (HPCVD) is a thin film deposition technique that combines physical vapor deposition (PVD) with chemical vapor deposition (CVD). For the instance of magnesium diboride (MgB2) thin film growth, HPCVD process uses diborane (B2H6) as the boron… … Wikipedia
